?物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)

...。采用低压LPCVD可以提供蒸发气体的传输沉积速度。激光等离子体、微射频RW-PCVD和金属有机化合物MOCVD等也各有特点，因此广泛用于微电子和光电子工业。但在重要部件需要耐磨蚀方面也有探索的可能。物理气相沉积（PVD）是包括离子镀、真空蒸发镀和溅射三类，可更方便地沉积化学气相沉积工艺所能沉积的各种涂层，而且具有比CVD更为实用的二个特点，要...

?物理气相沉积法

（3）物理气相沉积物理气相沉积法（PVD）是指在真空条件下，真空镀膜设备公司。使其在光波导材料、梯度折射率薄膜及减反射膜等领域得以运用。

?真空电镀

通常： 真空电镀 （ PVD ）镀厚在3U-8U 水镀（化学镀）：镀铜+镀NI+镀铬加起来有那么厚

?真空镀膜

主要电镀品种有： 1、真空镀膜（PVD）：IPS、IPG、IPS间IPG、IP白铬、IP白铬间IPG、IP咖啡、IP灰、IP白金、IP黑、IP蓝等；2、化学镀（水镀）：酸金PNP、PCP、PDP、白金...