光刻胶 Photoresist
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光刻胶（英语：photoresist），亦称为光阻或光阻剂，是指通过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。
Positive resist
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Photoresist 光刻胶
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![Comparison between a positive tone resist and a negative tone resist.](/Images/godic/202502/03/Comparison_positive_negative_tone_resist.svg1247.png")
![Vergleich von Positiv- und Negativlack bei der fotolithografischen Strukturierung](/Images/godic/202502/03/Vegleich_Positiv-_und_Negativlack.svg1247.png")
A photoresist is a light-sensitive material used in several industrial processes, such as photolithography and photoengraving, to form a patterned coating on a surface.