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A new method to study wet - etching process, infrared thermal image, is proposed.
提出了一种研究湿法腐蚀进程的新方法 ——— 红外热像法.
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Wet etching for MOEMS devices based on K 9 glass substrate is demonstrated.
介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺.
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