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常压化学气相沉积(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition);Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition;常压化学气相沉积法
网络释义
1.
常压化学气相沉积(Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition)
用
常压化学气相沉积
(
APCVD
)技术, 在同一反应器中, 不同温度下连续反应, 依次进行碳纳米管阵列的制备、空气氧化净化和二氧 …
csb.scichina.com:8080
2.
Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition
Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition
(
APCVD
)Diffusion and LPCVD Furnaces「休 假 福 利」:周休二日 「保 …
www.1111.com.tw
3.
常压化学气相沉积法
用
常压化学气相沉积法
(
APCVD
)在玻璃基板上沉积制备TiN薄膜. 反应物为纯度是98%的TiCl4和99.999%的NH3, 以纯度为99.99…
www.coating-cn.com
4.
常压化学气相淀积
常压化学气相淀积
(
APCVD
)是指在大气压下进行的一种化学气相淀积的方法,这是化学气相淀积最初所采用的方法。这种工 …
baike.baidu.com
5.
常压化学汽相淀积
电器电子英语词汇 -... ... antitrans mit receive box 收发开关盒
apcvd
常压化学汽相淀积
aperiodic antenna 非党天线 ...
www.hjenglish.com
6.
化学气相沈积
图(六) 大气压
化学气相沈积
(
APCVD
)系统结构示意图3-4-5 低压化学气相沈积系统低压化学气相沈积(LPCVD)是在低於大气 …
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更新时间:2024/11/16 3:42:35