RF sputtering

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1.	射频溅镀法射频溅镀法(rf sputtering)所制造的ito，易受工艺控制因素不良而导致www.d dd tT. com表面不平整，进而产生表面的尖端物质 … www.8ttt8.com
2.	射频溅射电器电子专业英语词汇 ... rf induced plasma 射频放电感应等离子体 rf sputtering 射频溅射 rh 相对湿度 ... www.chuandong.com
3.	射频电溅镀 ...荷堆积而无法溅镀. -o ~&rq?b4f i) 射频电溅镀(RF Sputtering) 使用频率为 13.56 MHz 的射频电源,使靶材与镀层表面能被离子 … wenku.baidu.com

4.	射频磁控溅镀法利用射频磁控溅镀法（RF sputtering），制备大面积、低损伤、高压电系数的压电薄膜，应用其基本的压电特性，而感测出模 … wr.ntut.edu.tw
5.	磁控溅镀技术对於氧化镍(NiO)薄膜沉积方式是使用磁控溅镀技术(RF Sputtering) ，氧化镍(NiO) 靶材纯度为99.98%。其溅镀时操作环境为压 … proj.ncku.edu.tw

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