| 释义 |
1. | 电浆溅镀 电浆溅镀(Plasma Sputtering)是物理气相沉积(PVD)中的一项重要技术,1852年Grove发现溅镀沉积方法后,这个方法就一直被不 … www.tw100s.com | 2. | 等离子体溅射 中国行业资讯大全... ... 金属蒸气激光器 metallic vapor laset 等离子体溅射 plasma sputtering 离子束溅射 on-beam suputtering ... www.ec.hc360.com | 3. | 等离子溅射 plasma中文 ... plasma spraying 等离子溅射 plasma sputtering 等离子溅射... plasma smelting reduction 等离子熔融还原 ... www.yinghanhuyi.org |
4. | 电浆电镀 电浆电镀(Plasma Sputtering)主要的原理,是在一个真空腔体内通入氩气(Argon),施加大电压,氩气将发生弧光放电(arc)而变成电 … www.etafilm.com.tw | 5. | 磁控溅镀法 比较磁控溅镀法(Plasma Sputtering)与网印法(Screen Printing) 两种制程，并选择Fe-Cr合金为底材，镀上La0.7Sr0.3MnO3 (LS… thesis.lib.ncu.edu.tw | 6. | 电浆溅镀法 ...学沈积法(CVD)[26]，物理沈积法(PVD)，电浆溅镀法(plasma sputtering)[27-31] 等 亦可以用来合成薄膜式感测材料，或进行 … www.docstoc.com |
|