LDD

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2.	掺杂漏(Lightly Doped Drain) 【摘要】：轻掺杂漏(LDD)工艺已经成为亚微米、超深亚微米MOS器件能够有效地抑止热载流子(HC)效应的标准工艺之一，但 … cdmd.cnki.com.cn
3.	掺杂汲极与传统没有轻掺杂汲极（LDD）结构的传统薄膜电晶体比较起来，我们的元件有效的降低漏电流且仍有相当的驱动电流。我们 … etd.lib.nsysu.edu.tw

4.	掺杂漏极现代器件结构如轻掺杂漏极（LDD），需要在纵向和横向上精确控制杂质分布。垂直于表面的离子速度决定注入分布的投影射 … www.docin.com

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