?电子束微影
电子束微影(E-beam lithography)虽已经用以生产原型组件，但要达到大量生产仍有难以突破的障碍。
?电子束光刻
据EE Times网站报道，德国Vistec半导体公司声称，电子束光刻（E-beam lithography）与传统的光学光刻两种技术不应互相排斥，而可以很好的结合，以节省制造时间和成本。
?电子束曝光系统
...系99 级 王莹 本文首先介绍了北京大学最新引进的聚焦离子束纳米工作站(FIB)、台湾清华大 学的电子束曝光系统(E-beam Lithography)，阐述了其结构、工作原理，以及 操作使用方法。
?电子束微影技术
...数千万美元以上）且维护成本高，对于成本考量要求严格的产业界是一 项沉重的负担，而电子束微影技术（EBL, E-Beam Lithography）虽是最受重视且使用最久的，其最 小线宽也可达10 nm，然而EBL 所需的工作时间过长，不适合量产所...
电子束微影系统 ; 电子束曝光机
翑
电子束曝光机
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