?紫外光微影

「透过结盟，包括high-k金属闸极、深紫外光微影(EUV lithography)、直通硅晶穿孔(through-silicon vias)等技术得以问世，且由于定向研究(targeted research)，得以节省大笔研发经费，也能符合研发...

?超紫外光微影技术

值得一提的是，英特尔未来将导入超紫外光微影技术(EUV Lithography)，可以提供13nm波长，大幅超前现有的微影技术。