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单词 dry etching
释义
dry etching
/ dra? ?et??? /
  • 简明释义
  • 干法蚀刻:一种半导体制造过程中使用的蚀刻技术,通过化学或物理方法去除材料表面的一部分,而不使用液体化学品。
  • 网络释义
  • 1

    ?干蚀刻

    20 (二)干蚀刻干蚀刻』(dry etching)是以电浆来蚀刻表面原子的过程。在蚀刻过程中并不使用化学 溶液,因此称之为干蚀刻

  • 2

    [电子]?干法刻蚀

    干法刻蚀(dry etching)是一个通称术语,是指以气体为主要媒体的刻蚀技 术晶圆不需要液体化学品或冲洗。晶圆在干燥的状态进出系统。

  • 3

    ?干法腐蚀

    ... 干法染色 dry dyeing 干法充填 dry packing 干法腐蚀 Dry etching ...

  • 4

    ?干腐蚀

    腐蚀技术可以分为『湿腐蚀』(wet etching)及『干腐蚀』(dry etching)两类。

短语
  • 双语例句
  • 1
    The principle and the main parameters of the dry etching for silicon dioxide are introduced.
    阐述了二氧化硅干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。
  • 2
    Dry etching technique of silicon is a very important process in the modern semiconductor industry.
    对硅的干法刻蚀技术是现代半导体工业中非常重要的一项工艺。
  • 3
    Surface micromachining USES select materials and both wet and dry etching processes to form the circuitry layers.
    表面微机械加工使用选择的材料和干法和湿法蚀刻工艺以形成电路层。
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更新时间:2025/1/12 18:57:25