?常压化学气相沉积

常压化学气相沉积法（APcvD）：常压化学气相沉积法是最早研发的CVD系统。在 大气压环境下操作，APCVD技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单 ...

?常压化学汽相淀积

...氧化层）氮化硅多晶硅难熔金属与这类金属之其硅化物 常压化学汽相淀积(NPCVD)(Normal Pressure CVD) 常压化学气相淀积(APCVD/NPCVD)是指在大气压下进行的一种化学气相淀积的方法，这是化学气相淀积最初所采用的方法。

?化学气相沉积法

...1.？一个氧化锡薄膜，它是由氟或硼掺杂的，其制作方法为大气压化学气相沉积法(APCVD)，被沉积在一个与其形成过程相匹配的，譬如是玻璃板的基板上。

?常压CVD

...，在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术，沉积物达到一定厚度以后又容易与基底分离、常压CVD(APCVD)，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，这样得到的无机合成物质可以是很细的粉末。?。