?非平衡磁控溅射
非平衡磁控溅射(unbalanced magnetron sputtering,UBMS)技术作为一种新型的技术,通过附加的磁场,使阴极靶面的等离子体状态发生较大改变,从而不仅具有普通磁控溅...
?采用非平衡磁控溅射
研究结果表明：1)采用非平衡磁控溅射(Unbalanced Magnetron Sputtering, UBMS)技术沉积DLC膜时,靶电流对界面层厚度的影响占主导地位；当靶基距从102mm增至162mm时,薄膜界...
闭合场非平衡磁控溅射
ecr非平衡磁控溅射
非平衡磁控溅射系统
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