?热化学气相沉积法
采用热化学气相沉积法(thermal chemical vapor deposition,TCVD)在经过高温氨气处理后的硅基铁纳米薄膜表面实现片状碳纳米带的催化生长。通过场发射 .
?采用热化学气相沉积法
?气相沉积法
快速热化学汽相淀积 ; 快速热化学气相沉积
激光热化学气相沉积
热化学气相沉积
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