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单词 sputtering target
释义
sputtering target
  • 简明释义
  • 溅射靶材：一种用于溅射镀膜过程中的材料，通常由金属、陶瓷或其他材料制成，用于产生薄膜材料。
  • 网络释义
  • 1

    ?溅射靶

    ... sputtering source ==> 溅射源 sputtering target ==> 溅射靶 sputtering yield ==> 溅射效率,溅镀率,溅镀系数,溅射率,溅射系数 ...

  • 2

    ?溅镀靶材

    ...平面显示器到一般的玻璃表面涂层， 物理溅镀 (Physical Vapor Deposition) 的 应用愈来愈普遍， 溅镀靶材 (Sputtering Targets) 这种高附加价值的功能性材 料之使用量也就逐年增加， 在庞大市场的诱因之下， 许多溅镀靶材之制造厂家 早已投入可观之研发经费...

  • 3

    ?溅射靶材

    Keywords Aluminum alloy films ,Sputtering targets ,Wiring of IC [gap=122]关键词 铝合金薄膜 溅射靶材 集成电路

短语
  • 双语例句
  • 1
    Sputtering target is usually made of pure molybdenum sheet.
    而溅射靶材多以金属纯钼板材为主。
  • 2
    Uses: sputtering target, physical vapor deposition, high temperature alloys.
    溅射靶材、物理气相沉积、高温合金。
  • 3
    The thickness uniformity of films deposited by planar magnetron sputtering target was analyzed theoretically.
    从理论上分析了平面磁控溅射靶沉积薄膜的厚度均匀性。
随便看

　

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更新时间：2025/2/12 15:26:11