?氧化硅

本文采用PECVD技术制备出的高折射率薄膜材料氮化硅(SiNx)、高激光损伤阈值薄膜材料氧化硅(SiOx)以及低折射率薄膜材料含氟氧化硅(SiOxFy)作为激光高反膜制备需要的薄膜材料,研究了SiNx材料、SiOx材料和SiOxFy材料的最佳制备工艺...

?氧化物

“即使采用硅的氧化物(SiOX)作为负极材料，由于SiOX首次嵌锂的过程中会生成金属锂氧化物LiXO，经过诸多技术改进，首次效率也仅能达到80%左右。

?硅氧化物

所述陈化方法包括以下步骤：在操作等离子体设备执行等离子体工艺前、测量在等离子体设备的工艺室中出现的基于硅氧化物(SiOX)的化学物种的光发射强度与基于碳氟化物化合物(CFY)的化学物种的光发射强度的比；确定所测量的光发射强度比的值是否在正常状态的预...

?透明

山休闲农业观光园一期项目 透明(SiOX)高阻隔膜生产线项目 核桃、花椒经济林基地建设项目 电子商务服务平台项目 木瓜种植基地建设项目..