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单词 rf sputtering
释义
rf sputtering
  • 简明释义
  • 射频溅射
  • 网络释义
  • 1

    ?射频溅射

    射频溅射RF sputtering) 用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统,由于常用的交流电源的频率在射频段,如13.56MHz,所以称为射频溅射

  • 2

    ?磁控溅射法

    ...学法两大类,干法包括真空蒸发、气相沉积(物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(cvD))、溅射(射频磁控溅射法(RF Sputtering)、等离子体溅射)以及离子镀等方法,N.Y:Kimd等【l】通过磁控溅射法制备得到TiNz-Si02双层抗静电薄膜。

  • 3

    ?射频磁控溅射

    目前常用的制备 PZT 铁电薄膜的方法有溶胶凝胶法 (Sol-gel) 、射频磁控溅射(RF Sputtering)、金属有机物化学气相淀积(MOCVD) 、脉冲激光 沉积(PLD) 、分子束外延(MBE) 等。

短语
  • 双语例句
  • 1
    Dielectric breakdown of BST thin films prepared by RF sputtering is studied in this paper.
    采用射频溅射制备BST薄膜,研究了薄膜的介电击穿特性。
  • 2
    Through the technology of RF and DC reactive sputtering manufacture, H2S gas sensors have been developed on silicon substrate on which a heater made of Pt were attached.
    通过交流和直流反应溅射,我们以硅基片(表面上有白金加热电极)为基底制作H_2S气敏元件。
  • 3
    Thin films of lead lanthanum zirconate titanate (PLZT) were deposited by rf magnetron sputtering from oxide targets onto unheated Si substrates.
    用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧(PLZT)薄膜。
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更新时间:2025/1/11 20:08:39