?溅射法

...Kivaisi等人n劬以纯金属钒（纯度99．7％）为原料，采用直流（Dc）和射频（RF）反应磁控溅射法（Reactive magnetron sputtering）在普通玻璃衬底上制备V02薄膜。

?反应磁控溅射

1．4．1反应磁控溅射（Reactive Magnetron Sputtering） 反应磁控溅射法利用辉光放电的原理进行工作，溅射过程中要用到时气和02气，舡作为溅射气体，02作为反应气体，通过流量控制器分别...