英语词汇reactive ion etching怎么读，是什么意思，单词翻译、读音、固定搭配用法和短语词组及例句-英汉双解词典

单词

reactive ion etching

释义

reactive ion etching

美/ ri??kt?v ?a?ɑ?n ?et???; ri??kt?v ?a??n ?et??? /

简明释义

[电子] 反应离子蚀刻

网络释义

1
?反应离子刻蚀
反应离子刻蚀(reactive ion etching,RIE)是利用一定压强下刻蚀气体在高频电场的作用下,使气体辉光放电产生分子激励和活性基,对刻蚀物离子轰...
2
?反应离子腐蚀
... reactive gas 反应气体；活性气体 reactive ion etching （RIE） 反应离子腐蚀 reactive load 电抗负载 ...
3
?反应性离子蚀刻
第二个步骤，我们利用非等向性蚀刻，例如：反应性离子蚀刻(Reactive ion etching，RIE)，去移除被压印之区域之剩馀光阻。

短语

1
Deep Reactive Ion Etching
深层离子蚀刻技术 ; 深反应离子刻蚀 ; 离子蚀刻技术 ; 利用深反应离子蚀刻
2
Reactive Ion Etching System
反应离子刻蚀系统
3
triode reactive ion etching system
三极型反应性离子蚀刻系统 ; 三硝基苯

双语例句

1
This accelerometer is fabricated by N type silicon wafer. To obtain high aspect ratio structure, deep reactive ion etching(DRIE) process is employed.
加速度计用普通的N型硅片制造，为了刻蚀高深宽比的结构，使用了深反应离子刻蚀（DRIE）工艺。
2
Yak hairs were treated by the microwave electron cy cl otron resonance plasma reactive ion etching(ECR-RIE) equipment to improve its property of weave.
采用微波电子回旋共振等离子体反应离子刻蚀（E CR-R IE）装置对牦牛毛纤维进行表面改性，从而改善牦牛毛的可纺性。
3
The gated silicon field emitter arrays (FEA) with small gate aperture have been successfully fabricated by dry etching, including ion beam etching (IBE) and reactive ion etching (RIE).
利用离子束刻蚀(IBE)和反应离子刻蚀(RIE)等干法刻蚀方法来制造带栅极的场发射阴极阵列。

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单词	reactive ion etching
释义	reactive ion etching 美/ ri??kt?v ?a?ɑ?n ?et???; ri??kt?v ?a??n ?et??? / 简明释义 [电子] 反应离子蚀刻网络释义 1 ?反应离子刻蚀反应离子刻蚀(reactive ion etching,RIE)是利用一定压强下刻蚀气体在高频电场的作用下,使气体辉光放电产生分子激励和活性基,对刻蚀物离子轰... 2 ?反应离子腐蚀 ... reactive gas 反应气体；活性气体 reactive ion etching （RIE）反应离子腐蚀 reactive load 电抗负载 ... 3 ?反应性离子蚀刻第二个步骤，我们利用非等向性蚀刻，例如：反应性离子蚀刻(Reactive ion etching，RIE)，去移除被压印之区域之剩馀光阻。短语 1 Deep Reactive Ion Etching 深层离子蚀刻技术 ; 深反应离子刻蚀 ; 离子蚀刻技术 ; 利用深反应离子蚀刻 2 Reactive Ion Etching System 反应离子刻蚀系统 3 triode reactive ion etching system 三极型反应性离子蚀刻系统 ; 三硝基苯双语例句 1 This accelerometer is fabricated by N type silicon wafer. To obtain high aspect ratio structure, deep reactive ion etching(DRIE) process is employed. 加速度计用普通的N型硅片制造，为了刻蚀高深宽比的结构，使用了深反应离子刻蚀（DRIE）工艺。 2 Yak hairs were treated by the microwave electron cy cl otron resonance plasma reactive ion etching(ECR-RIE) equipment to improve its property of weave. 采用微波电子回旋共振等离子体反应离子刻蚀（E CR-R IE）装置对牦牛毛纤维进行表面改性，从而改善牦牛毛的可纺性。 3 The gated silicon field emitter arrays (FEA) with small gate aperture have been successfully fabricated by dry etching, including ion beam etching (IBE) and reactive ion etching (RIE). 利用离子束刻蚀(IBE)和反应离子刻蚀(RIE)等干法刻蚀方法来制造带栅极的场发射阴极阵列。
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