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单词 reactive ion etch
释义
reactive ion etch
  • 简明释义
  • 反应离子刻蚀:一种半导体制造过程中用于刻蚀材料表面的技术,通过使用反应性气体和离子束来去除材料的一部分。
  • 网络释义
  • 1

    ?活性离子腐蚀

    Reactive Ion Etch(活性离子腐蚀), 此释义来源于网络辞典。

  • 2

    ?离子蚀刻

    最具广泛使用的方法便是结合物理性蚀刻与化学反应性蚀刻,即所谓的活性离子蚀刻(RIE, Reactive Ion Etch),此种蚀刻方式兼具非等向性及高选择比等双重优点,蚀刻的进行主要靠化学反应来 达成,以获得高选择比。

短语
  • 双语例句
  • 1
    And all of the foundries utilize similar equipment, which includes deep reactive ion etch tools and wafer bonders.
    所有芯片制造厂都使用类似的设备,包括深反应离子蚀刻工具和晶片键合机。
  • 2
    The influence of chamber pressure, gas flow rate and RF power on micro loading effect in reactive ion etch of silicon dioxide is researched.
    对二氧化硅反应离子刻蚀中反应室压力,刻蚀气体流量和射频功率等因素对刻蚀速率和刻蚀均匀性的影响进行了研究。
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更新时间:2025/2/15 11:32:57