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单词 plasma chemical vapor deposition
释义
plasma chemical vapor deposition
  • 简明释义
  • 等离子化学气相沉积:一种利用等离子体化学反应在固体表面上沉积薄膜的技术。
  • 网络释义
  • 1

    ?等离子体化学汽相淀积

    等离子体化学汽相淀积

  • 2

    ?等离子化学气相沉积

    等离子化学气相沉积

  • 3

    ?等离子体化学气相沉积法

    等离子体化学气相沉积法

短语
  • 双语例句
  • 1
    The hydrogen plasma was excited by the technology of helicon-wave plasma chemical vapor deposition (HWP-CVD).
    利用螺旋波等离子体化学气相沉积(HWP - CVD)技术,以氢气为反应气体产生等离子体。
  • 2
    Carbon nanotube films were synthesized on Ni substrate by microwave plasma chemical vapor deposition at low temperature.
    以镍片为基板材料,利用微波等离子体化学气相沉积法在低温条件下合成了纳米碳管膜。
  • 3
    Under the catalytic effect of nickel particles, spring-like carbon filaments were synthesized through microwave plasma chemical vapor deposition.
    以镍为催化剂,利用微波等离子体化学气相沉积法制备了弹簧状碳纤维。
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更新时间:2025/4/19 0:53:28