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单词 photoresist
释义
photoresist
英/ ?f??t??r??z?st /
美/ ?fo?to?r??z?st /
  • 简明释义
  • n.[电子] 光刻胶；[印刷] 光致抗蚀剂；[光] 光阻材料
  • 网络释义
  • 1

    [电子]?光刻胶

    关键词：ITO玻璃基板；光刻胶；涂胶厚度；涂胶均匀性；涂胶缺陷 [gap=692]Key words: ITO glass; Photoresist; Film thickness; Film equality; gelatinizing defect ...

  • 2

    ?光致抗蚀剂

    所说的光刻胶,又称光致抗蚀剂(Photoresist),是指通过紫外线、电子束、离子束、X-射线等的映射或者辐射,其消融度变了样子的耐蚀刻薄膜质料,经暴光和显影而使消融度增加的是正...

  • 3

    ?光阻

    半导体制程中所使用的光阻 (Photoresist)即为光微影制程 中之隔绝材料 使用一迟缓环境取代一 正常环境，增加中性部 分或迟缓添加物于一物 体或系统 隔绝材料 39 1.

  • 4

    ?光阻剂

    2．2颜料分散法用光阻剂 光阻剂（PhotoResist）是一种感光材料，亦称光刻胶，其广泛应用在半导体 及TFT-LCD面板生产线的微影制程中。

短语
  • 双语例句
  • 1
    Exposure dose should be changed with the thickness of SU-8 photoresist.
    根据SU - 8胶的厚度确定曝光剂量的大小。
  • 2
    A small undesired hole in an oxide opaque region of a mask or reticle or in a photoresist layer.
    氧化物、掩模或标线的不透明区域，或光刻层中不需要的小孔。
  • 3
    Pattern transfer technique is used to transfer photoresist microlens arrays into the polymer underlayer.
    通过反应离子刻蚀可以将光刻胶微透镜图形转移至这种高性能的聚合物材料上。
  • 同近义词
  • n.

    [电子]光刻胶；[助剂][印刷]光致抗蚀剂；[光]光阻材料

    optical resist
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更新时间：2025/1/10 18:05:40