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单词 physical vapour deposition
释义
physical vapour deposition
  • 简明释义
  • 物理气相沉积
  • 网络释义
  • 1

    ?物理气相沉积

    ...VD过程中等离子体物理特性混合模拟及实验研究 吕少波 ? 【摘要】:基于等离子体技术的物理气相沉积(Physical Vapour Deposition, PVD)和化学气相沉积(Chemical Vapour Deposition, CVD)是目前低温制备薄膜材料最常用的方法,等离子体的物理特性对薄膜沉积速率和...

  • 2

    ?物理气化沉积

    PVD代表Physical Vapour Deposition(物理气化沉积),是精密先进的处理程序,透过离子轰击或溅射在真空环境下将微细粒子沉积于产品表面,在基板形成保护涂层。

  • 3

    ?物理气相沉积法

    ??????? 车身外部的金属亮件采用独特的烟熏处理不锈钢装饰,更首次使用“物理气相沉积法(Physical Vapour Deposition)”镀膜技术于汽车生产之上

  • 4

    ?物理蒸馏

    物理蒸馏(Physical Vapour Deposition)在200℃-500℃工作温度下,被覆高耐磨镀膜,VANADIS 23在560℃高温回火,因此在镀膜时没有尺寸改变的危险

短语
  • 双语例句
  • 1
    Quantitative and qualitative comparisons are carried out with other physical vapour deposition techniques.
    与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较。
  • 2
    Coating by physical vapour deposition (PVD), coating by chemical vapour deposition (CVD) and surface layer modification by ion implantation, all three are being tested and are partly in use.
    涂层的化学气相沉积(CVD)和表面层改性的物理气相沉积(PVD)涂层的离子注入,所有三个正在受到考验,并部分使用。
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更新时间:2025/3/26 20:31:06