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The common fabrication technologies of binary optical elements were expatiated, including etching, thin-film deposition, direct writing, excimer laser projection and gray-scale masks. 综述了二元光学元件的常用制作工艺技术，包括台阶刻蚀法、薄膜沉积法、直接写入法、准分子激光加工法和灰阶掩模法。 - 2
In order to meet the requirements of optical, electronic and mechanical performance of semiconductor products, it is necessary to measure thin film stress during the deposition. 为使半导体产品达到所要求的光学、电子和机械性能，必须实时地在沉积过程中直接测量薄膜应力。 - 3
Because the capacity of the optical component lies crucially on the thin film thickness, monitoring the deposition thickness becomes the key to the precise production. 光学薄膜的厚度对光学元件的性能有决定性的影响，因此精确控制膜厚就成为了关键。
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