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单词 metal organic chemical vapor deposition
释义
metal organic chemical vapor deposition
  • 简明释义
  • 有机金属化学气相沉积法：有机金属化学气相沉积法（MOCVD）是一种在基板上成长半导体薄膜的方法。它使用金属化合物或有机金属化合物作为反应源，在气相条件下进行沉积。这种方法可以制备非晶形薄膜或具有晶形的薄膜。
  • 网络释义
  • 1

    ?金属有机物化学气相沉积

    ...金属有机物化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称MOCVD)是制备混合半导体器件、金属及金属氧化物、金属氮化物薄膜材料的一种技术。

  • 2

    ?主要以有机金属气相磊晶成长法

    , Ltd ,VPEC)1996年11月成立于桃园,主要以有机金属气相磊晶成长法(Metal Organic Chemical Vapor Deposition, MO..

  • 3

    ?扩充有机金属化学气相磊晶

    品世界 因韩国、台湾与大陆等地区LED厂自2009年以来陆续扩充有机金属化学气相磊晶(Metal Organic Chemical Vapor Deposition;MOCVD)设备产能，带动全球蓝宝石晶棒需求增加，然2009年全球蓝宝石晶棒厂扩产趋于保守，致使2010年全球蓝宝石晶棒供货不足，以2吋...

短语
  • 双语例句
  • 1
    Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) is a key technology in growing thin-films.
    金属有机化学气相沉积(MOCVD)是一门制备薄膜材料的关键技术。
  • 2
    The device structure is optimized firstly, then the structure is grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD).
    首先优化设计了器件结构，并利用金属有机物化学气相淀积（MOCVD）进行了器件的外延生长。
  • 3
    A novel high reflectivity type of semiconductor saturable absorption mirror grown by metal organic chemical vapor deposition is presented.
    利用金属有机气相淀积方法生长了一种新型吸收体：高反射率半导体可饱和吸收镜。
随便看

　

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更新时间：2025/8/22 12:56:37