?掩膜作品
集成电路布图设计的保护客体有不同的称谓,但其本质并无太大差别,美国称为掩膜作品(mask work),中国、瑞典、俄罗斯、韩国称为布图设计(layout-design),日本称为电路布图(circuit layout),欧共体、英国、德国、荷兰、法国...
?掩模作品
...一、集成电路布图设计的特有含义 集成电路布图设计在国际条约与各国立法中的名称是五花八门,美国称为掩模作品(mask work),欧共体的理事会指令将其称为拓扑图(topography,日本称之为电路布局(circuit layout,韩国、中国均称之为集成电路布图设计(lay...
?光罩作品
1984年11月8口,由美国国会通过的《半导体芯片保护法》正式生效,开始对体现在半导体芯片产品中的“光罩作品”(mask work)或集成电路布图提供保护。这是当时世界上唯一对光罩作品或集成电路布图提供保护的法律。
?光罩着作
...条款的规定,对本国产品造成损害,包括有 效的(valid)及可强制执行的(enforceable)专利,版权,注册商标,或光罩著作(mask work) 有被侵权情事,ITC 可以发布命令(order),排除(exclude)产品进入美国,以及/或是指 示(directing)违规的被告,以警告禁止(cease...
屏蔽作品权
工宗模 ; 工作模
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