?金属有机化学气相沉积
...金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备微电子和光电器件的关键技术。在MOCVD反应器中,存在着大的温度差和浓度差,将引发强烈的自然对流和浓度扩散。
?有机金属化学气相沉积
(4)MOCVD法 有机金属化学气相沉积法(MetalOrganic Chemical VaporDesposition,MOCVD):是 一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长的方法。
?有机金属化学汽相淀积
...大,性能已大大提高,其生产技术,通过液相外延扩散法(LPE ),气相外延(VPE ),分子束外延(MBE ),MOCVD (有机金属化学汽相淀积),化学束外延(CBE ),和各种其他相结合的类型和其它过程,激光阈值电流下降到几百毫安到几十毫安,其寿命从几百到数万数千小时,...
?化学气相沉积
金属有机化学气相沉积(MOCVD,MetalOrganic Chemical VaporDeposition)就是在 CVD的技术基础上采用金属有机物作为蒸发源的材料制备技术Il引。
沉积 ; 气相外延 ; 低压mocvd ; 气相沉积法
磊晶制程工程师 ; 外延制程工程师 ; MOCVD外延生长
MOCVDsystem
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