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?激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposition)
...理沉积(LPVD)主要是利用蒸发机制制膜，利用此种方法可以制非金属膜，也可以制金属膜（包括难熔金属膜）。激光化学气相沉积(LCVD)是利用激光束的局部高温、高能诱导反应气体发生化学反应沉积成膜的方法。
?激光诱导化学气相沉积
激光诱导化学气相沉积（LCVD）是脆弱的，在低温下的热敏感基板上生长的薄膜的一个有吸引力的技术。
?光诱导化学汽相淀积
文摘： 光诱导化学汽相淀积(LCVD)技术是一种新的低温化薄膜制备技术。本文评述了LCVD技术的特点、原理和装置,着重讨论了利用这种技术制备金属、半导体与化合物和介...
?激光CVD
...相淀积)的缩写,勺70”代表反应室工 粗作面积为270 x 270mm:,气”表示有一个反应室.PVD亦可称光CvD.光CVD中一般包含激光CVD(LCVD)和Hg敏化光CvD两种类型,PVD一270一1型属于后者。Hg敏化光CVD是利用水银蒸气作光敏化剂增强光化学气相反应.
激光化学气相沉积
激光化学汽相淀积
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