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单词 hot plasma device
释义
hot plasma device
  • 简明释义
  • 高温等离子体装置
  • 网络释义
  • 1

    ?高温等离子体装置

    高温等离子体装置

  • 双语例句
  • 1
    The plasma source ion implantation device consists of pulsed negative high voltage power, hot cathode arc discharge system, vacuum chamber and target stage, vacuum system and monitor system.
    等离子体源离子注入装置由脉冲负高压源系统、热阴极弧放电系统、真空室及样品台、真空系统和监测系统等五部分组成。
  • 2
    The plasma can be 4 generated by hot-cathode discharge or RF discharge of gas. In addition, the device has four metal plasma sources, two magnetron sputtering targets, cold and hot target supports.
    真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生,4另外还配置了4个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。
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更新时间:2025/1/9 17:44:03