?照射场

... exposure dose rate 照射剂量率 exposure field 照射场 exposure indicator 照射量指示器 ...

?曝晒场

... 曝晒场 exposure field 日光曝晒 solar exposure 曝晒漂白 sunbleaching ...

?曝光区域

90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。